半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用,如二极管就是采用半导体制作的器件。
2016-2019年全球半导体设备市场规模发展较为平稳,从2020年开始增速发展,2016-2022 年复合增长率将达到 18.47%。
数据来源:观研天下整理
另外,中国大陆的半导体设备销售额从2013年的33亿美元增长至2020年的187亿美元,年复合增长率高达 27.70%,远超全球市场增速。
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据据数据显示,全球半导体材料市场规模始终保持在半导体总规模的11%-13%左右;2021 年全球半导体材料市场规模达 643 亿美元,较 2020 年的 555 亿美元增加 88 亿美元,同比增长 15.9%,再创新高。
全球半导体材料市场规模(亿美元) |
|||
地区 |
2020 |
2021 |
YoY |
中国台湾 |
127.2 |
147.11 |
15.70% |
中国大陆 |
97.83 |
119.29 |
21.90% |
韩国 |
91.19 |
105.72 |
15.90% |
日本 |
79.02 |
88.11 |
11.50% |
其他地区 |
67.7 |
78.01 |
15.20% |
北美 |
55.64 |
60.36 |
8.50% |
欧洲 |
36.22 |
44.14 |
21.90% |
全部 |
554.79 |
642.73 |
15.90% |
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根据数据显示,2021年全球CMP设备市场规模为26.4亿美元,中国2021年CMP设备市场规模相对较低,为7.6亿美元。
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CMP设备是集机械学、流体力学、材料化学、精细加工、控制软件等多领域最先进技术于一体的设备,2019年美国应用材料和日本荏原的CMP设备比重各占70%、25%的全球市场份额CMP 设备市场呈现出高度垄断的竞争格局。
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CMP 抛光材料是 CMP 工艺中用到材料的总称,属于半导体材料成本之一,其中,抛光液和抛光垫为 CMP 工艺的核心材料,在 CMP 抛光材料中占比分别达到 49%和 33%。
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受益于3D Nand以及先进制程工艺的快速发展,CMP材料需求量的大幅提升, 2020年的全球抛光液、抛光垫市场规模为16.6、10.2亿美元。
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抛光垫是 CMP 工艺中重要耗材之一,但由于国内企业在化学机械抛光领域起步较晚,专利技术积累相对较浅。2003-2009 年为国际申请数量高峰时段,2010 年后数量有所下降,但总体变化平稳,抛光垫领域仍然是各个公司重点攻略方向。国内专利申请数量于 2008 年逐步攀升,在之后呈现出波浪式上升的趋势。
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相关行业分析报告参考《中国半导体行业发展深度分析与未来投资预测报告(2022-2029年)》
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