全球溅射靶材行业市场稳定增长 美日企业占主导 中国企业“乘风而起”

一、溅射靶材种类和性能丰富，金属靶材未来可期

根据观研报告网发布的《中国溅射靶材行业现状深度分析与投资前景预测报告（2024-2031年）》显示，溅射靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）溅射工艺的材料，用于制备薄膜。在PVD过程中，溅射靶材被加热并被离子轰击，从而产生蒸汽，这些蒸汽沉积在基底上形成薄膜。

溅射靶材的选择取决于所需薄膜的化学和物理性质，以及所使用的PVD工艺。常见的溅射靶材包括金属、合金、氧化物、氮化物、碳化物等。随着PVD技术的不断发展，溅射靶材的种类和性能也在不断更新和改进。

靶材类型划分

资料来源：观研天下整理

金属靶材未来可期。金属靶材以其出色的导电性、热稳定性、沉积速度快、溅射率低的特点，成为薄膜沉积的不二选择。金属薄膜可以广泛应用于半导体芯片、平面显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性等下游领域，其所用金属类别以及性能要求各有千秋。

金属溅射靶材的应用领域以及性能要求

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二、全球溅射靶材市场规模持续稳定增长，中国行业地位不断提高

作为各类薄膜工业化制备的关键材料，随着半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域发展，全球溅射靶材市场规模持续稳定增长。根据数据，2016-2023年全球溅射靶材市场规模由113亿美元增长至258亿美元，年复合增长率为12.52%。

数据来源：观研天下数据中心整理

中国因本土化生产和应用的增加，在全球溅射靶材行业中的地位越来越重要。数据显示，2018-2023年我国溅射靶材市场规模由243亿元增长至431亿元，年复合增长率达12.91%。

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三、美日企业占据全球溅射靶材主要市场，中国企业“乘风而起”

美国和日本企业凭借专利先发优势占据了约80%的全球溅射靶材市场份额，其中日本日矿金属、美国霍尼韦尔、日本东曹、美国普莱克斯分别占比30%、20%、20%、10%。

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随着国内显示和半导体集成电路产业迅速发展，下游产业逐步向国内转移，带动了国内溅射靶材行业的快速发展，我国溅射靶材产业逐渐从单一的规模增长转变为进口替代的结构化增长，以江丰电子、阿石创、有研新材、隆华科技、欧莱新材等为代表的一批具有较强市场竞争力的本土靶材企业成功进入了国内外知名平台显示、半导体集成电路等下游企业的供应链环节，对境外厂商在国内的市场份额形成了进口替代，并实现了部分出口，保障了国内重点行业上游关键原材料的自主可控及供应安全。

我国溅射靶材行业代表企业基本情况

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现阶段，国务院、国家发改委、工信部等政府部门通过各类文件多层次、多角度、多领域对高性能溅射靶材行业予以全产业链、全方位的指导，为行业内企业的经营发展提供了有力的支持和良好的环境。我国溅射靶材企业“乘风而起”，市场份额有望不断提升。

我国溅射靶材行业相关政策

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