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光刻机的最小分辨率、生产效率、良率均在不断发展。光刻机的最小分辨率由公示R=kλ/NA，其中R代表可分辨的最小尺寸，对于光刻技术来说，R越小越好
参考观研天下发布《2016-2022年中国微电子组件制造产业现状调查及十三五投资动向研究报告》
参考观研天下发布《2018年中国半导体测试市场分析报告-行业深度调研与发展前景研究》
参考观研天下发布《2018年中国半导体用石英玻璃材料行业分析报告-市场深度调研与发展前景研究》 &n
