【报告大纲】 第一章溅射靶材产业相关概述 第一节溅射靶材阐述 一、磁控溅射原理 二、磁控溅射镀膜靶材 第二节高纯高密度建设
【报告大纲】 第一章2015-2018年中国溅射靶材行业总概 第一节2015-2018年中国溅射靶材行业发展概述 第二节2015-2018年中国溅射
溅射靶材的制备技术方法按生产工艺可分为熔融铸造法和粉末冶金法两大类。在靶材制备过程中,除严格控制材料纯度
根据统计,2015年全球半导体材料销售额为435亿美元,其中晶圆制造材料销售额为242亿美元,封装材料为1
化学纯度是影响薄膜材料性能的关键因素,高纯金属原材料是靶材生产制造的基矗高纯金属提纯分为化学提纯和物理提