掩膜版制、抛光材料与靶材

国内外掩膜版制、抛光材料与靶材制作工艺流程及分类情况

国内外掩膜版制、抛光材料与靶材制作工艺流程及分类情况。掩膜版（Photomask）又称光罩，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板，被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版 掩膜板可分为光掩膜版和投影掩膜版。